ポーラスチャック

ポーラスチャック Porous Chuck

ポーラスチャック(吸着テーブル)とは半導体製造工程で使用されるダイシングソーや検査装置に組み込まれている部品です。テーブル表面のポーラス(多孔質)構造と負圧を利用することによって薄いシリコンウェハー等を平面保持することが出来る製品です。ダイシングソーでは20μm程度の幅でシリコンウェハーを切断していくため、ウェハー吸着面には高い平面平行度が求められます。

≫ ポーラスチャックの実績は「実績の紹介」よりご覧いただけます

ポーラスチャックの種類

当社のポーラスチャックでは標準的に吸着面の平面度を5μm以下の精度で仕上げています。吸着面の大きさや台座の形状にもよりますが吸着面の平面度を3μm以下の精度で仕上げることも可能です。ポーラスチャックは半導体製造装置だけでなく、薄いものを平面に吸着させるという特徴を活かして各種測定装置、検査装置にも使われています。

詳しくはポーラスチャックオフィシャルサイトをご覧ください。
当社ではポーラスチャックに限らずポーラスを使った応用製品についてのご相談も承っております。

丸型ポーラスチャックシリコンウェハーの吸着に最適な製品。各種サイズに対応可能。	角型ポーラスチャックフィルム・紙の吸着に最適な製品。加工や検査用として多く採用されてます。	突上げステージフィルム・紙の吸着に最適な製品。加工や検査用として多く採用されてます。
自吸型ポーラスチャック電池が内蔵されているため、ハンドリング性に優れた製品です。	面発光ポーラスチャック検査用として最適な製品。バックライト機能としてご使用していただけます。	ヒーターユニット熱実験に最適な製品。最大で250℃まで加熱し、固定が可能です