ポーラスチャック Porous Chuck
ポーラスチャック(吸着テーブル)とは半導体製造工程で使用されるダイシングソーや検査装置に組み込まれている部品です。テーブル表面のポーラス(多孔質)構造と負圧を利用することによって薄いシリコンウェハー等を平面保持することが出来る製品です。ダイシングソーでは20μm程度の幅でシリコンウェハーを切断していくため、ウェハー吸着面には高い平面平行度が求められます。
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ポーラスチャックの種類
当社のポーラスチャックでは標準的に吸着面の平面度を5μm以下の精度で仕上げています。吸着面の大きさや台座の形状にもよりますが吸着面の平面度を3μm以下の精度で仕上げることも可能です。 ポーラスチャックは半導体製造装置だけでなく、薄いものを平面に吸着させるという特徴を活かして各種測定装置、検査装置にも使われています。
詳しくはポーラスチャックオフィシャルサイトをご覧ください。
当社ではポーラスチャックに限らずポーラスを使った応用製品についてのご相談も承っております。
![]() 丸型ポーラスチャック シリコンウェハーの吸着に最適な製品。各種サイズに対応可能。 |
![]() 角型ポーラスチャック フィルム・紙の吸着に最適な製品。加工や検査用として多く採用されてます。 |
![]() 突上げステージ フィルム・紙の吸着に最適な製品。加工や検査用として多く採用されてます。 |
![]() 自吸型ポーラスチャック 電池が内蔵されているため、ハンドリング性に優れた製品です。 |
![]() 面発光ポーラスチャック 検査用として最適な製品。バックライト機能としてご使用していただけます。 |
![]() ヒーターユニット 熱実験に最適な製品。最大で250℃まで加熱し、固定が可能です |
環境、条件、用途に応じた仕様
形状
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ボディ素材
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ポーラス素材
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サイズ
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ボディ表面処理
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ポーラス素材
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