ポーラスチャック(吸着テーブル)とは半導体製造工程で使用されるダイシングソーや検査装置に組み込まれている部品です。テーブル表面のポーラス(多孔質)構造と負圧を利用することによって薄いシリコンウェハー等を平面保持することが出来る製品です。ダイシングソーでは20μm程度の幅でシリコンウェハーを切断していくため、ウェハー吸着面には高い平面平行度が求められます。
当社のポーラスチャックでは標準的に吸着面の平面度を5μm以下の精度で仕上げています。吸着面の大きさや台座の形状にもよりますが吸着面の平面度を3μm以下の精度で仕上げることも可能です。 ポーラスチャックは半導体製造装置だけでなく、薄いものを平面に吸着させるという特徴を活かして各種測定装置、検査装置にも使われています。
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シリコンウェハーの吸着に最適な製品。各種サイズに対応可能。
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フィルム・紙の吸着に最適な製品。加工や検査用として多く採用されてます。
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フィルム・紙の吸着に最適な製品。加工や検査用として多く採用されてます。
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電池が内蔵されているため、ハンドリング性に優れた製品です。
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検査用として最適な製品。バックライト機能としてご使用していただけます。
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熱実験に最適な製品。最大で250℃まで加熱し、固定が可能です。
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- 丸型
- 角型
- 円筒型
- 特殊型(各種形状に対応可能)
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- ステンレス
- チタン合金
- アルミニウム
- セラミックス
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- セラミックス
- ステンレス
- カーボン
- PTFE
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- 丸型 (φ5mm～φ500mm)
- 角型 (□5mm～□350mm)
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- フッ素樹脂加工
- アルマイト
- 防錆黒色皮膜LD処理
- 無電解ニッケルメッキ
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- 3μm～580μ
