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2016年8月31日、横浜知財みらい企業の認定授与式がありました。

最初に認定を頂いたのが2007年8月、早10年目になります(当事は横浜価値組企業)。

これからのものづくり企業は、良い技術を持つだけでなく、その技術をどう生かし活用して行くか、

そして自社の技術を他社に悪用されないような対応策も必要になります。

そういった取り組みを後押ししてくれるのが、この横浜知財みらい企業の認定です。

これからも社会に役立つ製品づくりに取り組んで参ります。

有難うございました。

DSC_6289.jpgのサムネール画像

 

DSC_6277.JPGのサムネール画像のサムネール画像のサムネール画像

 

 

 

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弊社ではこのたび、東京ビッグサイトで開催される「セミコン・ジャパン2016」に出展致します。

単独出展2回目の今回は、バラエティに富んだポーラスチャック製品をより詳しく説明致します。

 

特に昨年好評であった面発光ポーラスチャックは、発光ムラを解消し更に大型化に取り組みました。

ポーラス素材の改良も重ね表面状態の改善も行い、滑らかな吸着面を実現致しました。

 

会場では製品を実演し、手で触って頂ける展示を行いますので、是非皆様のご来場を心よりお待ちしております。

 

日時:2016年12月14日(水) ~ 12月16日(金) 10:00 - 17:00

場所:東京ビッグサイト ホール1 出展小間番号 1432

 

 

 

SCJapan-40_RGB_ms.JPG

 

 

 

 

 

 

 

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今回は当社のポーラスチャックの吸着能力についてご紹介します。

基本的に標準的なポーラスチャックはポーラス面全面を吸着ワークで塞いで使用頂く必要がございます。

塞がっていないポーラス部分が存在するとそこから空気の漏れが発生し吸着力が大きく低下してしまうためです。

この吸着力の低下の割合はポーラスの粒子径によって大きく異なり、細かいポーラスであるほど空気の漏れは抑えられます。

 

そこで当社標準品である平均気孔径55μmのポーラスと最も細かい平均気孔径2μmであるファインポーラスを使用し

空気の漏れが発生する際の吸着力をそれぞれ測定しました。

 

吸着力グラフ.jpg

グラフの縦軸は測定した吸着力(N)となり、当社の吸着力測定環境は上限値が50Nであるため50N以上の力の場合は破線で仮想グラフにしております。φ200(全面吸着時)の固定力はどちらもほぼ同等となります。

グラフの横軸は実験に使用した吸着ワークのサイズとなります。今回使用したポーラスのサイズはφ200となる為、吸着サイズが小さくなるほど空気の漏れが大きくなり吸着サイズがφ200の際は全面吸着された真空状態となります。

 

結果としては吸着ワークのサイズが小さくなるにつれ吸着力も減少しますがポーラス気孔径の違いで減少度合いが大きく異なることがわかるかと思います。これは先述の通り細かいポーラスは空気の漏れが少ない為となります。

また今回は測定値を数値化する為、元となる吸着圧力を-10kPaと弱くしましたが、実際の吸着に使用する-60~-90kPa等の能力を持つ真空ポンプを使用した際の固定力はより大きくなります。

 

今回のように部分的な吸着力を重視する場合は基本的に気孔径が細かいポーラスが有利な結果となります。

但し、お客様の用途・仕様・環境によって最適なポーラスの選定は異なってまいりますので

お悩みの際は是非お問い合わせフォームよりお問い合わせ下さい。

 

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